浸润式DUV光刻机之父：中国现有光刻机可制5nm工艺
讲清楚点儿，光刻这条路其实分两拨：一拨想把光的波长弄得更短，像当年有人看好157nm；另一拨不是换光源，而是改变光在介质里的传播状态，让它“看起来”更短，浸润式DUV就是后者。后来又冒出个极紫外EUV，用13.5nm的光源一次成像，理论上省事多了，但设备贵得吓
duv光刻机
荷兰正式禁售DUV光刻机！中方别无选择，只能坚定自主制造破局
42%的中国订单明年说没就没，ASML的CEO把财报翻得哗哗响，也找不到能替中国补窟窿的第二个市场，于是荷兰政府一纸令下：DUV也不给卖。
荷兰分析师放话：中国至少需要5年，才能勉强追上ASML的DUV光刻机
芯片就是现代生活的命根子，从手机到汽车，从高铁到卫星，没它寸步难行。可偏偏在高端光刻机上，美国带头拉着荷兰的ASML卡我们脖子。荷兰资深分析师直言，中国要想在深紫外DUV光刻机上勉强跟上ASML的步伐，至少得花五年时间。